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183.第183章 分布式投影光刻机研制成功

“这些条件确保了投影物镜系统的性能和成像质量,具体条件为0.12<|l/f|<0.4以及r/r<1%……”

……

底下听到李暮说大家群策群力找到了后面方向的人原本还有点高兴,就连黄新华都暗道难道自己底下的人忽然开窍了?

结果一听李暮说的内容,不能说毫不相关,只能说一点都没提到。

不过来不及觉得难过,他们就奋笔疾书,努力地将李暮说的东西赶紧记下来。

打击肯定是有的,但他们绝不会自怨自艾,更不可能会放弃。

至于嫉妒?

根本不可能!

李暮越厉害,他们越高兴,有这样厉害的人在,只会让他们更加坚信,祖国的繁荣和昌盛的未来,必将会实现!

……

在李暮加入分布式投影光刻机研制组后,有他的引导下,物镜系统的研究进度飞快向前推进。

全组人员加班加点地在实验室熬,黄新华更是直接住在了半导体研究所,一连七天没有回家。

结果也没有辜负他们的努力。

高曝光分辨率、低波相差、快速检测、微环境控制等一系列的技术难题被逐渐解决。

分布式投影光刻机的研制,也进入最后阶段。

……

分布式投影光刻机研制组实验室内。

在众人目光的注视下,研究人员将最后的零部件组装完成,旋即立刻宣布开始光刻实验。

分布式投影光刻机开始运行,在晶圆表面涂覆光刻胶后,曝光系统开始工作,将掩膜上的图形投影在晶圆上。

同时晶圆沿相反方向,以四分之一的速度开始移动。

再进入显影环节,将光刻胶中未曝光区域溶解,从而露出下面的硅片。

……

一道道原本复杂无比的光刻工序,一台分布式投影光刻机,全部搞定!

然而这还不算结束。

看着刘泽和王杨两人,拿着刚刚从分布式投影光刻机中生产而出的通信芯片,李暮脸上露出笑意。

这块通信芯片,光从外表看,就比原先的通信芯片小了10倍不止。

而它的集成度也相当夸张,达到了恐怖的3万!

不过还差最后一步,验证通信芯片能够正常运行,才是真正的成功。

李暮看了看身旁的严佩林和黄新华,两人俱是一笑,用目光示意他继续指挥。

他看向满脸兴奋走到自

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